中国造不出光刻机？中科大副院长：美国造不出，中国永远都不可能

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“美国造不出来，中国永远也研制不出光刻机”
说这句话的不是美国人，而是中国科学技能大学研究生院的副院长朱士尧。
要知道,光刻机是制造先辈芯片的关键装备，如今全球最先辈的极紫外(EUV)光刻机，只有荷兰ASML公司可以或许生产,售价高达1.5亿美元。
中国企业长期未能突破这一技能壁垒，成为制约我国芯片产业发展的瓶颈。
那么，中国真的永远无法自主研发光刻机吗?

«——【·光刻机·】——»
2023年9月，一段采访视频在网络上引发了轩然大波。
视频中，曾任华为党委书记的朱士尧发表了一番令人震惊的言论。
他的语气刚强，仿佛在报告一个不可改变的事实，这番言论立即在科技界、学术圈和平凡民众中引起了剧烈反响。

视频一经发布，立即在各大社交平台上疯狂转发，微博、微信朋友圈、抖音等平台上，关于这段视频的讨论如潮水般汹涌而来。
有人对朱士尧的言论表现愤怒，认为这是对国家科技实力的不信任；也有人表现附和，认为他只是在报告客观事实。

朱士尧的言论之所以云云引人注目，是因为光刻机在半导体制造中扮演着至关重要的角色。
它就像是芯片制造的“印刷机”，负责将电路图案正确地“印刷”到硅晶圆上。
没有光刻机，就无法生产出当代社会所依赖的各种电子装备中的核心部件——芯片。

然而，中国在光刻机技能方面面临着严厉的挑衅。
如今，全球最先辈的光刻机技能掌握在荷兰ASML公司手中，而中国一直面临着来自美国及其盟友的技能封锁。
在如许的配景下，朱士尧的言论无疑给正在积极突破技能壁垒的中国科研职员当头一棒。

«——【·光刻机技能·】——»
要明白光刻机技能的复杂性，我们须要深入相识这台庞然大物。
在光刻机技能的世界里，极紫外光（EUV）光刻机无疑是当之无愧的“巨人”。
这台庞然大物不但在体积上令人赞叹，其内部结构的复杂程度更是超乎想象。

一台EUV光刻机包罗了凌驾10万个零部件，重达180吨，相当于一架大型客机的重量。
这台机器涉及光学、细密机器、真空技能、质料科学等多个学科领域，可以说是当代工业的集大成者。
如今，荷兰ASML公司独占鳌头，如今，全球仅有ASML可以或许生产最先辈的EUV光刻机。

这种垄断地位不但体现了ASML的技能实力，也反映出了EUV光刻机研发和生产的艰巨性。
这种光刻机的价格高达2亿美元，而且交付周期长达18个月。它的稀缺性和重要性使得它成为了国际科技竞争的焦点。
然而，在这场技能比赛中，中国并非毫无作为。

上海微电子装备公司已经取得了可喜的进展，成功研制出了可以或许制造28纳米芯片的光刻机。
固然这与最先辈的3纳米工艺尚有肯定差距，但中国正在积极研发更先辈的光刻机技能，包罗极紫外光刻机。
更令人振奋的是，中国并未止步于此。

国内多个研究机构和企业正在积极研发更先辈的光刻机技能，包罗EUV光刻机。
在北京、上海、深圳等地的实验室里，科研职员们正在进行着一系列前沿实验。
他们研究怎样产生更强的极紫外光源，怎样进步光学系统的精度，怎样优化真空环境等。
这些研究固然还未完全成功，但每一个小进展都让我们离目标更近一步。

«——【·技能封锁下的中国·】——»
美国当局，作为全球科技霸主，深知光刻机技能对半导体产业的关键作用，因此多次采取行动，试图制止中国获取先辈光刻机技能。
在美国的强大压力下，全球最大的光刻机制造商ASML不得不做出让步。

2023年，ASML公司被迫制止向中国出售部门深紫外（DUV）光刻机，这进一步加剧了中国获取先辈光刻装备的难度。
随后，美国又多次通过外交渠道和贸易政策，不断加大对中国的技能封锁力度。
国际光刻机市场如今由ASML、日本的尼康和佳能三家公司主导。

其中，ASML在最先辈的EUV光刻机领域独占鳌头。这种高度集中的市场格局，使得任何一个国家都难以独立完成光刻机的研发和生产。
事实上，最尖端的光刻机须要多个国家共同积极才气完成。
面临这种局面，中国在2020年提出了“科技自主自强”的战略目标。这一目标旨在通过自主创新来突破关键技能领域的瓶颈，其中就包罗光刻机技能。

朱士尧，作为曾经的华为高管，如今的咖啡店法人和董事，他的话被很多人视为对国家科研职员的背叛，一时间将他推上了舆论的风口浪尖。
然而，在芯片领域，曾经也有人断言中国永远无法赶上国际先辈水平。

然而，颠末多年的积极，中国在芯片设计和制造方面已经取得了明显进步。华为麒麟芯片的成功就是一个很好的例子。
事实上，中国在多个高科技领域已经展现出了强大的创新能力。
在激光武器、电磁炮和高超音速导弹等领域，中国已经取得了震惊的成绩，这些成绩不但展示了中国的科技实力，也为将来的发展注入了信心。

如果我们将时间线拉得更长，就会发现中国在科技领域的突破并非偶然。
上世纪60年代，当中国成功研制出原子弹时，很多人都感到不可思议。
同样，在汽车制造领域，中国也经历了从完全依赖进口到自主品牌崛起的过程。这些历史性的突破，无不彰显着中国科技发展的巨大潜力。

光刻机技能的挑衅确实巨大，但这并不意味着中国就肯定无法突破。
相反，正是如许的挑衅，才更能激发科研职员的创新精力，中国有着悠久的科技创新传统，从四大发明到当代高科技，中国人始终在用聪明和勤奋推动着科技的进步。

当前，中国正在尽力推进光刻机技能的研发，固然蹊径艰辛，但每一步进展都值得肯定。
从28纳米到14纳米，再到更先辈的工艺，中国的光刻机技能正在一步步追赶世界先辈水平。这个过程可能须要时间，但只要对峙不懈，突破终将到来。

来源：https://www.toutiao.com/article/7414405894777225767/
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